Equipamentos e Materiais para Semicondutores: Morgan Stanley mantém Overweight para a ASML, com preço-alvo de €1.930

Visão geral

O Morgan Stanley retomou a cobertura da ASML após seus resultados do segundo trimestre. A principal conclusão é que a tese de investimento de médio prazo não deve se concentrar apenas na demanda pelo número de sistemas EUV. O relatório enfatiza a captura de valor por meio de atualizações de produtos, a demanda por litografia por imersão relacionada a DRAM e a flexibilidade para expansão de capacidade como as principais bases para manter a recomendação Overweight e o preço-alvo de €1.930.

Visões principais

As visões centrais são: primeiro, a administração prefere obter aumentos de ASP por meio da introdução de novos produtos EUV, em vez de reajustes generalizados de preços, sendo o 3800F e o 3800G os principais catalisadores; segundo, a litografia por imersão é sustentada por maiores taxas de adoção em fábricas de DRAM recém-construídas, mas, à medida que os ganhos de produtividade na litografia baseada em água se aproximam de limites físicos, o crescimento da receita em dólares pode acompanhar, em linhas gerais, o da EUV; terceiro, a capacidade existente de salas limpas da ASML pode exceder o aumento anunciado de 30% e, se a visibilidade da demanda dos clientes melhorar em 2028-2029, a empresa poderá aumentar a produção mais cedo; quarto, as recompras estão ocorrendo a aproximadamente US$5 milhões por dia, enquanto M&A seletivo pode ser possível em litografia de painéis ou integração de chips 3D.

Estrutura de análise

O relatório utiliza notas de comunicação da empresa, comparações entre pares, análise de ciclo de produtos e uma estrutura de avaliação relativa. A análise concentra-se na captura de valor dos novos produtos EUV, nas taxas de adoção de equipamentos de imersão em DRAM, nos diferenciais de crescimento entre pares de WFE, na flexibilidade dos gargalos de capacidade, na alocação de caixa e nas premissas de avaliação por P/L.

Notas metodológicas

• valuationAvaliação por múltiplo P/L

  Avaliação por P/L

  O relatório aplica um múltiplo P/L de 35x ao EPS do FY28 de €56,42 para derivar um preço-alvo da ASML de €1.930; 35x está na extremidade superior da faixa usual de avaliação no pico do ciclo, de 30-35x.

• company_analysisAnálise de precificação do ciclo de produtos

  Ciclo de produtos e captura de valor

  A administração acredita que os aumentos de ASP virão principalmente da introdução de novos produtos EUV, e não de aumentos generalizados de preços; o 3800F e o 3800G oferecem potencial mais claro de captura de valor devido às suas melhorias de throughput.

• industry_analysisComparação entre pares

  Comparação entre pares de equipamentos para semicondutores

  O relatório compara os vetores de crescimento de Lam, KLA, ASMI e ASML, observando que a Lam pode superar o WFE, a KLA pode ficar abaixo do WFE em 2026 e a ASML está equilibrando suas forças em DRAM/EUV contra ventos contrários da demanda chinesa.

Mapeamento e comparação de ativos

Mapeamento estruturado da tese para ativos nomeados (pontos fortes, pontos fracos, pares e riscos).

• ASML Holding NV

  Ação principal coberta; mantém as designações Overweight e Top Pick

  Pontos fortes

  Liderança em tecnologia EUV, forte exposição à demanda por DRAM/EUV, catalisadores de ASP nos lançamentos do 3800F/3800G e flexibilidade remanescente para expansão de capacidade.

  Pontos fracos

  As vendas na China estão desacelerando em 2026, enquanto o espaço para melhorias de produtividade na litografia por imersão está se aproximando de limites físicos.

  Comparação

  Em relação à Lam, a ASML está mais focada em EUV e captura de valor na litografia; em relação à KLA, a ASML tem maior exposição a DRAM/EUV, mas enfrenta ventos contrários mais fortes na China.

  Riscos

  Demanda final mais fraca, pedidos adiados, adoção insuficiente de High NA, inflação e fraqueza no mercado chinês.

• Lam Research

  Ação de comparação entre pares

  Pontos fortes

  Exposição a DRAM, NAND, lógica e encapsulamento avançado, sustentada por corrosão TSV, migração de HBM3 para HBM4, participação crescente de ALD e capex de NAND.

  Pontos fracos

  O relatório não detalha as principais fraquezas da Lam.

  Comparação

  O Morgan Stanley afirmou que a Lam aparentemente indica que pode superar o WFE.

  Riscos

  O texto-fonte não fornece evidências suficientes.

• KLA

  Ação de comparação entre pares

  Pontos fortes

  Pode superar o WFE em 2027 devido a uma base baixa em 2026.

  Pontos fracos

  Maior ponderação em lógica, com menor intensidade de memória, menor potencial de alta de preços e pressão sobre margens.

  Comparação

  A equipe acredita que a KLA terá desempenho inferior ao WFE em 2026 e poderá superá-lo apenas em 2027.

  Riscos

  Demanda por lógica e pressão sobre margens.

Dados principais

• RecomendaçãoOverweightO Morgan Stanley mantém sua recomendação para a ação da ASML.
• Preço-alvo€1.930Com base em uma avaliação P/L FY28 de 35x.
• Preço atual da ação€1.440,00Preço de fechamento em 30 de julho de 2026.
• Estimativa de EPS FY28€56,42EPSe FY28 do Morgan Stanley utilizado na avaliação do preço-alvo.
• Consenso de crescimento de ASP de EUV/imersãoaproximadamente 5% até 2027O relatório acredita que a melhoria de throughput do 3800F poderia proporcionar captura de valor acima desse nível.
• Referência de crescimento da receita de EUVCAGR de aproximadamente 25%O crescimento em dólares da litografia por imersão poderia acompanhar, em linhas gerais, o da EUV.
• Aumento de capacidadeaproximadamente 30% anunciadoA administração indicou que esse aumento pode ser alcançado em grande parte dentro das salas limpas existentes e não representa um teto rígido.
• Ritmo de recompraaproximadamente US$5 milhões por diaA administração sugeriu que esse ritmo poderia continuar durante o restante do trimestre.

Impacto e implicações

As implicações de investimento do relatório para a ASML são positivas: se novos produtos EUV elevarem os ASPs conforme programado, os investimentos de capital em DRAM superarem as expectativas e a visibilidade dos clientes sobre a demanda de 2028-2029 melhorar, a receita, os lucros e o múltiplo de avaliação da ASML ainda terão espaço para subir. No entanto, a desaceleração das vendas na China, a demanda final mais fraca, um ciclo inflacionário e a adoção insuficiente de High NA podem pressionar os pedidos e a avaliação.

Riscos

• A demanda final de fundições ou DRAM é significativamente mais fraca do que o esperado.
• Um forte ciclo inflacionário e a fraqueza no mercado chinês fazem o crescimento desacelerar e mais pedidos serem adiados.
• O High NA não é adotado para DRAM após 2028, potencialmente comprimindo o múltiplo de avaliação.
• A desaceleração das vendas na China compensa as forças da demanda por DRAM/EUV.
• Se a visibilidade dos clientes sobre a demanda de 2028-2029 continuar insuficiente, o ritmo da expansão antecipada de capacidade poderá ser limitado.

Pontos a observar

• O lançamento do 3800F em 2027, a adoção pelos clientes e o ritmo de concretização da precificação.
• O progresso do produto e a contribuição de ASP do 3800G por volta de 2029.
• Se as taxas de adoção de litografia por imersão em fábricas de DRAM recém-construídas permanecem em aproximadamente 2:1.
• Se a visibilidade dos clientes sobre a demanda de 2028-2029 melhora, desencadeando uma expansão de capacidade mais antecipada.
• Se a desaceleração das vendas na China evolui para uma pressão mais pronunciada sobre os pedidos.
• A sustentabilidade do ritmo de recompra de aproximadamente US$5 milhões por dia, bem como M&A seletivo em integração 3D ou litografia de painéis.