中国WFE进口年初至今同比下降13%，核心拖累来自光刻设备供给受限

概览

本报告是伯恩斯坦对中国晶圆制造设备（WFE）进口的月度跟踪，核心数据来自中国海关。4月中国WFE进口为27亿美元，环比下降12%、同比下降3%；年初至今进口约100亿美元，同比下降13%。报告强调，当前弱势主要由光刻设备进口受供给限制拖累，而不是中国半导体资本开支需求全面转弱。除光刻外，部分设备类别和来自新加坡、马来西亚的进口仍保持增长。

核心观点

报告的核心观点有三点：第一，4月和年初至今的中国WFE进口数据偏弱，但光刻设备是主要拖累项，非光刻设备合计进口仍有韧性。第二，中国需求仍受产能扩张投资支撑，国内WFE替代趋势继续利好NAURA、AMEC、Piotech等本土设备厂。第三，ASML中国收入短期面临明显下行压力，回归模型显示中国系统销售占比可能降至低位，但若DUV供给改善，仍可能带来上行空间。

分析框架

报告采用中国海关月度进口数据，按设备类型和贸易伙伴地区拆分中国WFE进口，并将部分设备类别进口额与ASML、LRCX、AMAT、KLAC、TEL、Kokusai、Screen、Advantest等公司的中国收入进行回归分析，用于判断季度收入方向和中国收入敞口。

方法论与常识提炼

• 数据跟踪中国海关WFE进口跟踪

  用月度进口金额观察中国晶圆制造设备需求和供给变化。

  报告筛选半导体设备相关海关编码，并按光刻、沉积、干法刻蚀、过程控制、清洗/材料去除、离子注入和其他设备等类别统计进口金额。

• 回归分析月度进口与季度中国收入回归

  用进口数据估算设备公司中国收入变化。

  报告将公司季度中国收入与对应设备进口数据建立相关性模型；ASML光刻进口模型R2约0.79，LRCX约0.83，KLAC约0.84，TEL约0.53，Kokusai约0.65，Screen约0.54，Advantest约0.60。

• 分区域分析贸易伙伴地区拆分

  按进口来源地识别供应链转移和地区份额变化。

  报告比较美国、新加坡、马来西亚、日本、荷兰等来源地份额，指出美国直接进口份额下降，而美国+新加坡+马来西亚合计份额上升，可能反映部分供应从东南亚制造基地发往中国。

标的映射与对比

研报将主题/逻辑映射到具体标的时的结构化摘要（优势、劣势、对比与风险）。

• ASML HOLDING NV

  中国光刻设备进口与公司中国系统收入高度相关

  优势

  长期受DRAM产能扩张和EUV强度提升支持，报告维持Outperform并给出€1,700目标价。

  劣势

  4月来自荷兰的光刻进口大幅下降，模型显示中国收入短期可能大幅走弱。

  对比

  FY26中国收入占比指引约20%，低于FY25的33%；模型估计Q2中国系统销售占比或仅7%。

  风险

  DUV供给限制、出口管制、月度进口数据波动和中国收入下滑。

• NAURA

  中国WFE本土替代受益者

  优势

  产品组合覆盖沉积、干法刻蚀、热处理和清洗，客户基础较多元。

  劣势

  需持续证明高端制程设备能力和份额提升速度。

  对比

  作为国内WFE龙头，报告认为其受益于中国本土替代和份额加速提升。

  风险

  技术迭代、客户验证周期和竞争加剧。

• AMEC

  中国干法刻蚀和沉积设备受益者

  优势

  以CCP、ICP干法刻蚀为主，并扩展ALD、LPCVD、EPI等沉积设备，技术认可度较高。

  劣势

  业务仍集中在若干关键设备类别。

  对比

  报告称其常被视为技术最好且全球认可度最高的国内WFE公司之一。

  风险

  产品扩张执行、国际竞争和客户资本开支节奏。

• Piotech

  中国沉积设备和先进封装设备受益者

  优势

  聚焦PECVD、HDPCVD、SACVD、ALD，并扩展W2W和C2W混合键合设备。

  劣势

  作为成长型厂商，规模和客户覆盖仍需扩张。

  对比

  报告认为其产品创新记录较强，可受益于本土替代。

  风险

  新产品验证、先进封装需求波动和竞争加剧。

• LRCX

  中国进口数据用于预测公司中国收入

  优势

  受益于GAA、先进封装、HBM和NAND升级等关键趋势。

  劣势

  4月数据指向Jun-Q中国收入环比下降约28%，中国收入敞口约22%。

  对比

  方向上与管理层关于6月季度中国敞口顺序下降的表述一致。

  风险

  中国敞口下降、设备订单周期和出口限制。

• AMAT

  进口回归用于验证已披露季度结果

  优势

  关键技术拐点敞口强，估值相对同业仍有吸引力。

  劣势

  4月数据对已披露季度不再具备预测价值。

  对比

  模型显示中国收入大致持平、敞口约26.5%，与实际约26.4%相符。

  风险

  周期波动、中国需求和同业竞争。

• KLAC

  过程控制相关进口与中国收入具有较强相关性

  优势

  结构性增长驱动、竞争地位稳固、中国替代风险较低、资本配置纪律较好。

  劣势

  管理层未给出本季度中国收入敞口指引。

  对比

  模型指向Jun-Q中国收入环比增长约17%，中国收入敞口约27%。

  风险

  整体中国WFE增速慢于全球WFE、估值溢价和客户资本开支波动。

• Tokyo Electron

  中国进口数据用于估算公司SPE中国收入

  优势

  全球第四大SPE供应商，覆盖多个产品段，日元贬值有助于价格竞争力和利润率。

  劣势

  1个月回归R2约0.53，预测能力有限。

  对比

  模型指向中国收入环比增长约14%，中国贡献约32%，高于上一季度27%。

  风险

  模型解释力有限、竞争和中国需求波动。

• Kokusai

  中国进口数据指向较强季度反弹

  优势

  Batch ALD在先进节点尤其GAA中采用提升，NAND资本开支修复也有支持。

  劣势

  中国收入波动较大。

  对比

  模型指向中国收入同比增长48%、环比增长101%，中国贡献约51%。

  风险

  NAND复苏不及预期、设备需求波动和模型误差。

• Screen

  中国进口数据指向明显下行

  优势

  面板级封装可能提供潜在上行。

  劣势

  清洗强度未提升，市场竞争激烈。

  对比

  模型指向中国收入同比下降50%、环比下降73%，中国贡献约12%，低于上一季度46%。

  风险

  清洗设备竞争、需求下滑和中国收入大幅波动。

• Advantest

  测试设备中国收入与进口数据部分相关

  优势

  受益于HBM和Blackwell测试强度提升，是HBM测试机和Nvidia AI GPU测试的重要供应商。

  劣势

  模型指向中国收入环比下降7%，中国敞口下降。

  对比

  隐含中国贡献约12%至15%区间，低于上一季度水平。

  风险

  AI测试需求节奏、客户集中和季度波动。

关键数据

• 4月中国WFE进口总额27亿美元环比下降12%，同比下降3%。
• 2026年初至今中国WFE进口约100亿美元同比下降13%。
• 4月光刻设备进口约1.42亿美元同比下降60%，占4月总进口约5%。
• 2026年初至今光刻设备进口18.5亿美元同比下降27%，是年初至今进口走弱的主要拖累。
• 4月来自荷兰的光刻进口8700万欧元环比下降87%，同比下降65%，为2022年7月以来最低。
• ASML中国系统销售估算0.44十亿欧元回归模型指向环比下降64%、同比下降71%，中国占Q2系统销售约7%。
• ASML管理层指引FY26中国收入约占总收入20%FY25为33%。
• 美国+新加坡+马来西亚进口份额2026年初至今44%2025年为35%，2024年为33%。
• 日本进口份额2026年初至今18%2025年为23%，2024年为26%。
• 荷兰进口份额2026年初至今19%2025年和2024年均约25%。

影响与含义

对投资而言，数据短期压制ASML中国收入预期，并提示LRCX中国收入可能环比下降；但非光刻设备需求、国内替代和部分日本设备商的中国敞口仍可能提供结构性机会。报告对国内设备龙头和部分全球设备公司保持正面，同时提醒月度进口数据波动较大，不能将单月弱势直接外推为中国WFE需求全面下滑。

风险

• 月度进口数据波动较大，单月数据可能不代表趋势性变化。
• 光刻设备进口受供给限制和出口管制影响，可能扭曲对真实需求的判断。
• 中国WFE需求若弱于预期，将影响全球设备公司中国收入和估值。
• 回归模型对不同公司的解释力不同，TEL、Screen、Advantest等模型预测能力相对有限。
• 国内替代虽是长期趋势，但产品验证、技术升级和客户资本开支节奏存在不确定性。

后续跟踪

• 后续月份中国光刻设备进口是否从低位恢复，尤其来自荷兰的DUV相关进口。
• ASML DUV供给能力改善情况及FY26中国收入占比是否高于20%指引。
• 非光刻设备进口是否继续保持增长，特别是沉积、过程控制和清洗/材料去除设备。
• 美国、新加坡、马来西亚、日本、荷兰等来源地进口份额变化，以判断供应链转移。
• LRCX、KLAC、TEL、Kokusai、Screen、Advantest后续季度中国收入披露与模型预测的偏差。
• NAURA、AMEC、Piotech等中国本土设备商在国产替代中的订单和份额提升。